Bersaglio metallico sputacchiante

Bersaglio per sputtering di cromo ad elevata purezza

Obiettivo dello sputtering di cromo ad elevata purezza Descrizione Il cromo è un metallo di transizione grigio acciaio, lucido, duro e fragile. Il target per sputtering di cromo ad elevata purezza

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Obiettivi di sputtering di boro al 99,5%.

Bersagli di sputtering di boro al 99,5% Descrizione Il target di rivestimento è una fonte di sputtering che forma varie pellicole funzionali sul substrato mediante sputtering in condizioni di

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Obiettivi di sputtering al molibdeno (Mo).

Descrizione degli obiettivi per sputtering al molibdeno (Mo) Essendo una tecnologia all'avanguardia per la preparazione dei materiali a film sottile, lo sputtering ha due caratteristiche: alta

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Bersaglio in metallo di titanio

Descrizione del bersaglio in metallo di titanio Il bersaglio in metallo di titanio è prodotto principalmente con il metodo di fusione con raffreddamento a fascio di elettroni. Presenta elevata

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Obiettivi di sputtering di metallo nichel

Obiettivi di nichel metallo sputtering Descrizione Nell'industria, il nichel è comunemente utilizzato nella preparazione delle leghe, nella produzione di batterie e come catalizzatore. Soprattutto

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Bersagli Sputter in metallo cromato

Bersagli per sputtering di metalli al cromo Descrizione Il cromo ha un punto di fusione elevato e una buona resistenza all'ossidazione, consentendo al bersaglio di cromo di rimanere stabile in

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Bersaglio per sputtering in lega di titanio TiAl

Descrizione del target di sputtering in lega di titanio TiAl Il target di sputtering si riferisce alla materia prima utilizzata nel processo di deposizione di sputtering. Si riferisce al processo in

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Bersagli PVD in lega di alluminio e titanio

Target PVD in lega di titanio e alluminio Descrizione Il target del rivestimento è una fonte di sputtering che forma varie pellicole funzionali sul substrato mediante sputtering in condizioni di

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Bersaglio per sputtering rotondo al boro

Boron Round Sputter Target Descrizione Boron Round Sputter Target è un materiale utilizzato per la preparazione della pellicola. È costituito da materiali boruri attraverso la metallurgia delle

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Bersaglio di sputtering planare al cromo

Caratteristiche e applicazione del target di sputtering planare al cromo L'elemento di cromo originale deve essere purificato mediante una serie di processi come fusione ad alta temperatura,

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Obiettivo di sputtering di cromo al 99,95%.

Target per sputtering al cromo al 99,95% Caratteristiche e applicazione Il target per sputtering al cromo al 99,95% è un target in metallo di elevata purezza, che può essere utilizzato per rivestire

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Obiettivi rotondi che spruzzano cromo

Obiettivi rotondi per sputtering al cromo Descrizione Il cromo metallico viene utilizzato principalmente come materia prima per la produzione di varie leghe. La produzione industriale del cromo

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Siamo conosciuti come uno dei principali produttori e fornitori di bersagli di metallo sputtering in Cina. Se hai intenzione di acquistare obiettivi di sputtering in metallo di alta qualità con un prezzo competitivo, benvenuto per ottenere un preventivo dalla nostra fabbrica. Inoltre, è disponibile un servizio personalizzato.

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