Bersagli Sputter in metallo cromato

Descrizione dei bersagli per sputtering di metalli cromati

Il cromo ha un punto di fusione elevato e una buona resistenza all'ossidazione, consentendo al cromo bersaglio di rimanere stabile in ambienti ad alta temperatura. Inoltre, la deposizione del fascio di elettroni e le caratteristiche di sputtering del magnetron dei bersagli di cromo conferiscono vantaggi unici in campi ad alta tecnologia come l'elaborazione microelettronica e i rivestimenti ottici. I target per sputtering in metallo cromato sono il materiale principale per la preparazione di film sottili ad alta tecnologia. Sono spesso realizzati mediante fusione sotto vuoto, metallurgia delle polveri e deposizione elettrochimica. Possono produrre prodotti con elevata purezza, elevata adesione, buona uniformità e resistenza alla corrosione. Una pellicola di alta qualità con proprietà eccellenti, resistenti all'usura e durevoli. I target Sputter in metallo cromato possono essere ampiamente utilizzati nell'industria elettronica di fascia alta, nei dispositivi microelettronici, nell'industria dei rivestimenti ottici, nella tecnologia PVD, nell'industria dell'energia solare e dell'illuminazione, nell'industria aerospaziale e nell'industria del rivestimento sotto vuoto, ecc.

Specifiche degli obiettivi per sputtering in metallo cromato:

Immagini di bersagli per sputter in metallo cromato:

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