Bersaglio per sputtering rotante in nichel-cromo

Target di sputtering rotante al nichel-cromo Descrizione

Gli obiettivi di sputtering rotante in nichel-cromo sono generalmente realizzati mediante fusione e fusione, dopo un processo di elettrolisi a tre strati, nonché una serie di lavorazioni meccaniche come rettifica, tornitura, laminazione e taglio, con una purezza che va dal 99,5% al ​​99,99%. I film sottili sputterati da obiettivi di sputtering rotante al nichel-cromo hanno una bassa dipendenza dalla temperatura, alta resistività, alto coefficiente di sensibilità, elevata conduttività elettrica e termica, eccellente resistenza all'ossidazione, microstruttura uniforme, superficie liscia senza pori e buona durata, ecc. Rispetto ad altri obiettivi di sputtering in lega , ha migliori proprietà fisiche e chimiche. Nell'industria del rivestimento PVD o CVD, i bersagli sputtering rotanti in nichel-cromo e i suoi film sono ampiamente utilizzati nei film di rinforzo superficiale come resistenza all'usura, riduzione dell'usura, resistenza al calore e resistenza alla corrosione, nonché vetro a bassa emissività, microelettronica, registrazione magnetica , semiconduttori e resistori a film sottile e altre industrie tecnologiche di fascia alta.

Bersaglio per sputtering rotante in nichel-cromo Specifiche:

Immagini rotative dell'obiettivo di polverizzazione del cromo del nichel:

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