Obiettivo di sputtering di rame

Descrizione e applicazione del bersaglio per sputtering di rame

Gli obiettivi di sputtering sono una classe speciale di materiali utilizzati principalmente nelle industrie di rivestimento a film sottile e rivestimento sottovuoto. Copper Sputtering Target è un prodotto di rame metallico di elevata purezza elaborato da una serie di processi (come estrusione, trafilatura, trattamento termico e lavorazione meccanica, ecc.) E ha molte proprietà eccellenti, come elevata purezza, basso prezzo, elettrico e conducibilità termica Forte, alta efficienza produttiva e lunga durata. Il target per sputtering in rame può essere suddiviso in target per sputtering in rame piatto (tondo o quadrato) e target per sputtering in rame rotante (solitamente tubolare) e lo standard di dimensione è determinato in base all'applicazione effettiva o ai requisiti del cliente. I bersagli per sputtering in rame sono il materiale per sputtering preferito, adatto per lo sputtering bipolare CC, lo sputtering tripolare, lo sputtering quadrupolare, lo sputtering a fascio ionico o lo sputtering magnetron, ecc. E può essere utilizzato per rivestire film riflettenti, film conduttivi, film semiconduttori, film decorativi, integrati circuiti e display, ecc.

Obiettivo di sputtering di rameSpecifiche:

Immagini del bersaglio con sputtering di rame:

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