Bersaglio rotondo in tungsteno

Descrizione e applicazione del bersaglio per sputtering rotondo in tungsteno

Il target è uno dei materiali indispensabili per la tecnologia di sputtering magnetron e le prestazioni del target determinano più o meno le prestazioni e la qualità del film depositato. Il bersaglio per sputtering rotondo in tungsteno ha il punto di fusione più alto tra tutti gli elementi metallici e presenta i vantaggi di alta densità, elevata purezza, struttura interna uniforme, buona stabilità alle alte temperature, forte resistenza alla migrazione di elettroni, forte resistenza alla corrosione e lunga durata. Il bersaglio per sputtering rotondo in tungsteno viene generalmente prodotto mediante fusione sottovuoto e pressatura a caldo, seguite da laminazione, taglio e ricottura. È più comunemente usato nell'industria elettronica e nell'industria dell'energia solare. I bersagli per sputtering rotondi in tungsteno prodotti dalla nostra azienda possono essere utilizzati anche nei settori dello sputtering al plasma, aerospaziale, petrolchimico, del rivestimento in vetro per semiconduttori, dell'edilizia e dello spazio di archiviazione di informazioni ottiche.

Bersaglio rotondo in tungstenoSpecifiche:

Immagini del bersaglio rotonde al tungsteno:

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