Panoramica

Iridium Target è una fonte di sputtering composta da iridio metallico di elevata-purezza, il cui nucleo viene utilizzato perdeposizione fisica da vapore (PVD)per preparare pellicole di metalli preziosi ad alta-temperatura, resistenti alla corrosione-e altamente stabili per applicazioni nei semiconduttori, nel settore aerospaziale, nel trattamento catalitico, negli strumenti ottici e in altri campi. FANMETAL ha più di 20 anni di esperienza nella produzione ed esportazione dibersagli in metalli nobili. Se vuoi conoscere il prezzo dettagliato, contattaci subito via e-mail.

Caratteristiche dell'iridio

Purezza ultra-elevata

La purezza può raggiungere il 99,99%-99,999% (grado 4N-5N) e la quantità totale di impurità è controllata al di sotto di 10 ppm per garantire la stabilità della trasmissione di corrente e l'uniformità della pellicola ed evitare difetti dello strato di pellicola causati dalle impurità.

Stabilità alle alte temperature

Ha un basso coefficiente di dilatazione termica, mantiene l'integrità strutturale in ambienti con temperature estreme, mantiene una bassa resistenza termica alle alte temperature, prevenendo efficacemente l'accumulo e la perdita di calore.

resistenza alla corrosione

L'iridio resiste a quasi tutti gli acidi, acqua regia, metalli fusi e silicati. Sulla superficie si forma una densa pellicola di ossido, che isola efficacemente il mezzo corrosivo esterno e protegge il substrato dall'erosione. (Fonte)

Proprietà meccaniche

Alta densità, elevata resistenza alla trazione, durezza Vickers maggiore o uguale a 1670 HV, pur mantenendo un'elevata durezza a una temperatura elevata di 2000 gradi. E può essere utilizzato a lungo senza causare inquinamento all'ambiente.

Immagini del bersaglio iridio

Applicazione del target Sputter Iridium

1. Produzione di semiconduttori e chip

L'Iridium Sputtering Target viene utilizzato per creare strati barriera ultra-sottili che limitano il movimento degli ioni rame nei substrati di silicio durante la fabbricazione di semiconduttori e chip; consentirà una maggiore affidabilità nelle interconnessioni dei chip; e può essere spruzzato con uno spessore di 0,5-3 nm per soddisfare le esigenze dei circuiti integrati ad alta densità con strutture fini, migliorando così le prestazioni dei dispositivi.

2. Componenti elettronici e tecnologia di visualizzazione

Alcune delle applicazioni sono la produzione di display OLED flessibili per creare strati di elettrodi, la fabbricazione di materiali per contatti di microrelè e interruttori, la produzione di componenti sensibili per sensori di pressione e temperatura ad alta-precisione e i materiali degli elettrodi primari utilizzati nei dispositivi RF 5G. I bersagli all'iridio possono migliorare significativamente l'efficacia della trasmissione dei segnali migliorando l'efficienza del segnale e la precisione delle misurazioni.

3. Strumenti ottici

Grazie alle sue proprietà riflettenti, l'iridio è un ottimo candidato per la riflessione/rivestimento dell'infrarosso medio e lontano-su rilevatori a infrarossi, ottiche a infrarossi (lenti) e prodotti per l'imaging termico. Inoltre, grazie alla superficie molto liscia, i rivestimenti in iridio possono fornire un'ulteriore protezione superficiale per i sistemi ottici di fascia alta-esposti a condizioni ambientali difficili al fine di prolungare la durata delle lenti.

4. Aerospaziale

I dispositivi di telerilevamento a infrarossi e di imaging a infrarossi di satelliti e sonde spaziali si affidano a membrane di iridio per ottenere un'elevata riflessione dell'infrarosso e stabilità dell'ambiente spaziale. L'iridio ha un punto di fusione elevato e un'eccellente resistenza all'ossidazione alle alte temperature e può essere utilizzato come pellicola protettiva o funzionale per componenti ad alta temperatura-e dispositivi relativi al motore-.

5. Energia e catalisi

L'iridio funge da catalizzatore nei gruppi elettrodi a membrana (MEA) utilizzati nelle celle a combustibile a idrogeno. L'attività catalitica e la stabilità chimica dell'iridio migliorano l'efficienza dell'elettrolisi per generare idrogeno e ridurre l'energia totale consumata. Se utilizzato come materiale per l'anodo, l'iridio garantisce una durata di servizio attiva significativamente più lunga nelle applicazioni cloro-alcaline rispetto ad altri materiali.

Elaborazione

(1) Preparazione della materia prima: selezionare polvere di iridio ad elevata purezza superiore al 99,99%-per lo screening e la rimozione delle impurità per garantire purezza della polvere e dimensione delle particelle uniformi.
(2) Stampaggio con pressatura a freddo: la polvere di iridio viene caricata in uno stampo e pressata a freddo ad alta pressione per creare un pezzo verde poroso con una certa resistenza.
(3) Pre-sinterizzazione: riscaldamento a bassa temperatura sotto vuoto o atmosfera protettiva per rimuovere il gas all'interno del corpo e consolidare preliminarmente.
(4) Pressatura a caldo/pressatura isostatica a caldo: il corpo viene densificato ad alta temperatura e pressione per ottenere billette di iridio ad alta-densità e bassa-porosità.
(5) Trattamento termico: attraverso forgiatura, laminazione o trattamento termico, raffinazione dei grani, miglioramento dell'uniformità della struttura e riduzione dello stress interno.
(6) Lavorazione meccanica di precisione: il taglio del filo, la molatura e la lucidatura vengono trasformati in pezzi grezzi che soddisfano i requisiti di dimensioni, planarità e ruvidità.
(7) Saldatura della piastra posteriore(opzionale): legare il materiale target alla piastra posteriore di rame, molibdeno e altre piastre posteriori per garantire una buona conduttività elettrica e termica durante lo sputtering.
(8) Pulizia e test dell'imballaggio: pulizia a ultrasuoni per rimuovere olio e polvere, dopo aver superato i test di purezza, densità, non-distruttivi e altri test, pulire l'imballaggio sottovuoto.

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Obiettivo Sputtering Iridio, Obiettivo Iridio In Germania

Di recente, abbiamo fornito un lotto di target di iridio ad alta-purezza ai clienti tedeschi per aiutarli a migliorare i loro settori nel settore dei semiconduttori. Disponiamo di capacità di personalizzazione di qualità superiore, tempi di consegna più rapidi e prezzi più competitivi rispetto ai precedenti fornitori dei nostri clienti in Giappone e negli Stati Uniti. Dopo aver ricevuto la merce, i clienti hanno parlato molto bene dei nostri prodotti e servizi e si prevede che avranno una collaborazione approfondita. In futuro, FANMETAL continuerà a migliorare la tecnologia dei prodotti e le capacità di personalizzazione, a ottimizzare i processi, a ridurre i costi, a concentrarsi sulla struttura dei mercati di fascia alta-in Europa e negli Stati Uniti, a costruire una rete internazionale completa di vendita e assistenza e a promuovere la "globalizzazione" di alta-qualità degli obiettivi nazionali.

Profilo Aziendale

VENTOLA

XINXIANG FANMETAL TECH CO LTD è principalmente impegnata nella produzione e vendita di leghe di tungsteno, leghe di molibdeno, carburo cementato, target di sputtering, leghe di titanio, zirconio metallico, iridio e stellite. I principali dipendenti di produzione, tecnici e commerciali di FANMETAL hanno 10-30 anni di esperienza, con abili lavorazioni meccaniche, trattamenti superficiali, nonché vendita di prodotti finiti e soluzioni di assistenza clienti. Può aiutare i clienti a risolvere vari problemi incontrati durante la produzione e viene utilizzato per migliorare l'efficienza.

Garanzia di qualità e conformità

Siamo in grado di raggiungere la massima purezza richiesta dai nostri clienti e possiamo fornire certificazione ISO 9001, certificato di origine e rapporti MTC.

Attrezzature avanzate

Siamo dotati delle più moderne apparecchiature di sinterizzazione, centro di lavoro CNC e apparecchiature di ispezione e analisi. E i tecnici hanno anche più di 20 anni di esperienza professionale.

Prezzi competitivi

Rispetto ad altri fornitori europei e americani, siamo in grado di fornire prodotti di alta-qualità riducendo al contempo i budget dei clienti. E anche il trasporto è molto-economico.

Servizio personalizzato

Possiamo personalizzare la produzione in base ai disegni del cliente e possiamo anche progettare e lavorare in base alle esigenze del cliente.

Domande frequenti

D: Qual è il grado di purezza più elevato dei vostri target per lo sputtering di iridio? Come puoi dimostrarlo?

R: La purezza più elevata dei nostri target di sputtering di iridio (Ir) è del 99,999% (5N). Forniamo un certificato di analisi (COA) di laboratori di terze parti-, inclusi i risultati dei test GDMS (spettrometria di massa a scarica di luminescenza) e test ICP, per verificare il contenuto di impurità e garantire la purezza del materiale.

D: In che modo la dimensione dei grani influisce sulle prestazioni di sputtering? Come controllate la dimensione dei grani nel vostro processo?

R: La dimensione uniforme e fine della grana- garantisce un tasso di deposizione stabile, uno spessore uniforme del film, una bassa generazione di particelle e una densità uniforme del film durante lo sputtering.
Controlliamo con precisione la dimensione dei grani attraverso il pretrattamento ottimizzato delle polveri, la pressatura a caldo sotto vuoto/sinterizzazione HIP e il trattamento termico post-sinterizzazione, ottenendo una microstruttura fine, uniforme e con-bassi difetti per garantire film sottili di alta-qualità.

D: Quali forme e dimensioni sono disponibili per i vostri target iridio?

R: Possiamo personalizzare i bersagli per lo sputtering di iridio in varie forme, tra cui bersagli rotondi, rettangolari planari, rotanti, ad anello circolare, bersagli a forma di gradino-e profili speciali personalizzati.
Le dimensioni sono personalizzabili in base ai disegni del cliente, coprendo dimensioni standard e non-standard, da piccoli laboratori a target di rivestimento industriale su larga-scala.

D: Come migliorare il tasso di utilizzo dei target di iridio durante lo sputtering?

R: Per aumentare l'utilizzo del target, consigliamo:

Utilizzo di bersagli cilindrici rotanti in iridio invece di bersagli planari, che possono migliorare significativamente l'utilizzo.
Adozione di target microstrutturali uniformi e ad alta densità per ridurre l'erosione e le particelle anomale.
Ottimizzazione della progettazione del campo magnetico del magnetron e dei parametri del processo di sputtering per ottenere un'erosione più uniforme.
Forniamo inoltre target di iridio ad alta-uniformità per supportare un utilizzo più elevato nella produzione effettiva.

D: Qual è il costo di spedizione?

R: Dipende principalmente dal peso, dal volume, dalla distanza dalla destinazione e dalle dimensioni del pacco. Faremo del nostro meglio per comunicare con la compagnia espressa per aiutarti a ottenere il costo di spedizione più ragionevole.

D: qual è il tempo di consegna?

R: Il nostro metodo di spedizione è principalmente aereo o marittimo. Una volta terminato il prodotto, utilizzeremo scatole di legno, plastica o cartone per un imballaggio stretto e inseriremo anche materiali morbidi per evitare danni al prodotto. Te lo consegneremo il prima possibile, entro 20-30 giorni.