Bersaglio di ossido di niobio

Descrizione del bersaglio dell'ossido di niobio

La tecnologia Sputtering consente di depositare pellicole di materiale metallico o di ossido di purezza ultraelevata su un altro substrato solido. I film di Nb2O5 vengono preparati mediante sputtering e viene esplorata l'applicazione di materiali di ossido di niobio in dielettrici ad alto dielettrico, rivestimenti antiriflesso e materiali sensibili ai gas. Il target dell'ossido di niobio è generalmente costituito da materiale di pentossido di niobio attraverso la lavorazione della metallurgia delle polveri o la tecnologia di sputtering del magnetron. Ha alta densità, elevata purezza, granulometria media minima, buona stabilità elettrochimica e caratteristiche di trasmissione elettronica, alto indice di rifrazione e bassa dispersione, resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione, durata e altre eccellenti proprietà fisiche e chimiche.

Il target di ossido di niobio può essere utilizzato non solo per preparare pellicole di ossido di niobio di alta qualità, nanofili e altre nanostrutture, ma anche per preparare dispositivi elettrochimici come celle solari efficienti e batterie agli ioni di litio, nonché per preparare protezione termica e resistente alla corrosione materiali di rivestimento.

Specifiche del target dell'ossido di niobio:

Immagini dei target dell'ossido di niobio

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