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Target sputtering al boruro di titanio

Target sputtering al boruro di titanio

FANMETAL fornisce il TiB2 Titanium Boride Sputtering Target utilizzato nel sistema di rivestimento PVD. Forniamo anche altri metalli target e materiale di evaporazione ad alta purezza 99.9999%, target di metalli preziosi (Au, Ag, Pt), servizio di incollaggio target, rivestimenti per crogioli (rame, molibdeno, tungsteno ecc.), Bersagli di sputtering ceramici.
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Product Details ofTarget sputtering al boruro di titanio

Target sputtering al boruro di titanio

FANMETAL fornisce il TiB2 Titanium Boride Sputtering Target utilizzato nel sistema di rivestimento PVD. Forniamo anche altri metalli target e materiale di evaporazione ad alta purezza 99.9999%, target di metalli preziosi (Au, Ag, Pt), servizio di incollaggio target, rivestimenti per crogioli (rame, molibdeno, tungsteno ecc.), Bersagli di sputtering ceramici.


Il boruro di titanio (TiB2) è il composto più stabile di boro e titanio. Ha una buona conduttività elettrica, lucentezza metallica, elevata durezza e fragilità.

la polvere è grigia o grigio-nera, punto di fusione: 2980°C, densità: 4,52 g/cm³n, la temperatura di resistenza all'ossidazione può raggiungere i 1000°C nell'aria ed è stabile nell'acido HCl e HF.


Titanium Boride Sputtering Target viene utilizzato principalmente per preparare prodotti ceramici compositi; può essere utilizzato anche per materiali ceramici conduttivi, utensili e stampi per il taglio ceramico, ecc.; poiché può resistere alla corrosione del metallo fuso, può essere utilizzato per la produzione di crogioli metallici fusi ed elettrodi di celle elettrolitiche.

Immagine target di sputtering del boruro di titanio:


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