Bersaglio per sputtering rotondo in zirconio 702

Descrizione del bersaglio rotondo per sputtering in zirconio 702

La deposizione di film sottile (rivestimento) è il processo di formazione e deposito di rivestimenti di film sottile su materiali di substrato che possono essere utilizzati per modificare o migliorare determinati elementi delle proprietà del substrato. Si tratta di una fase produttiva importante nella produzione di numerosi dispositivi e prodotti optoelettronici, a stato solido e medici. Il target per sputtering rotondo in zirconio 702 è il target più comunemente utilizzato nel processo di rivestimento. Può rivestire il substrato con rivestimento resistente all'usura, rivestimento riflettente, rivestimento conduttivo, rivestimento resistente alla corrosione o rivestimento decorativo. Maggiore è la purezza del materiale, maggiore è l'adesione, la resistenza all'usura e la durata del rivestimento e maggiore è l'effetto protettivo sul prodotto. Il bersaglio per sputtering rotondo allo zirconio 702 presenta i vantaggi di bassa densità, elevata resistenza specifica, resistenza alla corrosione, resistenza alle alte temperature, resistenza all'usura, eccellenti prestazioni di lavorazione, non tossico, non magnetico, piccola sezione trasversale di assorbimento dei neutroni termici, lunga durata, ecc., e può essere ampiamente utilizzato. Adatto per la lavorazione del rivestimento di prodotti elettronici, laser a fibra, display a LED, microscopi, laser a semiconduttore e altri strumenti di precisione. Se necessario, non esitate a contattarci via e-mail.

Specifiche del bersaglio sputtering rotondo allo zirconio 702:

Immagini di target sputtering rotondi in zirconio 702

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