Bersaglio rotondo sputter in zirconio 702
Zirconio 702 Sputter Round Target Caratteristiche e applicazione
Il processo di preparazione di Zirconium 702 Sputter Round Target comprende: prima preparare materiale di zirconio di elevata purezza, quindi elaborarlo mediante fusione a fascio di elettroni, quindi eseguire una serie di lavorazioni come forgiatura, laminazione, ricottura, lavorazione, dimensioni di taglio e pulizia. . Il rivestimento in zirconio spruzzato da Zirconium 702 Sputter Round Target può migliorare la resistenza all'usura, la resistenza alla corrosione e la durata dell'utensile rivestito e può esercitare proprietà meccaniche più eccellenti nella lavorazione ad alta resistenza.Zirconium 702 Sputter Round Target è ampiamente utilizzato nel rivestimento decorativo, campi di semiconduttori e rivestimenti ottici, utilizzati principalmente nell'elettronica e nell'industria dell'informazione, come circuiti integrati, archiviazione di informazioni, display a cristalli liquidi, memoria laser, dispositivi di controllo elettronico, ecc., e possono essere utilizzati anche nel campo del rivestimento in vetro; può essere utilizzato anche in materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura, prodotti decorativi di fascia alta e altri settori.
Specifiche dell'obiettivo rotondo dello sputter di zirconio 702:
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Grado |
ZR702 |
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Purezza |
99,9 percento -99,99 percento |
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Densità |
6,54 g/cm3 |
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Tecnica |
Pressatura isostatica a caldo, sinterizzazione, fusione sotto vuoto, forgiatura, estrusione, lavorazione meccanica |
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Diametro circolare |
OD:50-300mm,ID:30-280mm |
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Spessore |
1mm-35mm |
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Lunghezza |
100mm-4000mm |
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Tipo |
Planare, Tubo, Disco, Cilindro |
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Tempi di consegna |
15-20 GIORNI |
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Superficie |
Lucido, pulizia alcalina, molatura, ossido nero, ecc. |
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Certificazione |
ISO9001 |
Immagini rotonde dell'obiettivo di sputtering dello zirconio 702:


Domande frequenti
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