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Bersagli per sputtering circolare al tungsteno
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Bersagli per sputtering circolare al tungsteno

Bersagli per sputtering circolare al tungsteno

Descrizione dei bersagli di sputtering circolare al tungsteno Il tungsteno, come materiale bersaglio comunemente utilizzato, svolge un ruolo chiave nei tubi a raggi X. La temperatura di esercizio del catodo è di circa 2000 K. Gli elettroni emessi vengono accelerati da decine di migliaia a centinaia di migliaia di volt e poi colpiscono il bersaglio...
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Product Details ofBersagli per sputtering circolare al tungsteno

Descrizione dei target di sputtering circolare al tungsteno

Il tungsteno, come materiale target comunemente utilizzato, svolge un ruolo chiave nei tubi a raggi X. La temperatura di esercizio del catodo è di circa 2000 K. Gli elettroni emessi vengono accelerati da decine di migliaia a centinaia di migliaia di volt e quindi colpiscono la superficie del target, generando così raggi X altamente penetranti. I target di sputtering circolare al tungsteno sono generalmente realizzati tramite fusione sotto vuoto e pressatura a caldo, quindi laminati, tagliati e ricotti. Possono essere ampiamente utilizzati nei rilevatori di difetti a raggi X, nell'industria dell'illuminazione, nella lavorazione del rivestimento sotto vuoto, nell'industria elettronica e del vuoto elettrico, nella trivellazione petrolifera, nella fusione dei metalli, nell'ispezione aerospaziale e di imaging medico.
Vantaggi dei target di sputtering circolare al tungsteno:
1 Elevato punto di fusione: il punto di fusione del tungsteno metallico è pari a 3410 gradi, il che lo rende in grado di resistere al bombardamento di fasci di elettroni ad alta energia senza fondersi facilmente.
2 Alta densità: può far sì che la macchina a raggi X produca una maggiore energia in uscita e migliori la qualità delle immagini.
3 Resistenza alle alte temperature e buone prestazioni di dissipazione del calore: non si corrode facilmente in ambienti ad alta temperatura e può dissipare rapidamente il calore generato per evitare danni alle apparecchiature causati dal surriscaldamento.
4Eccellente resistenza alla corrosione, resistenza allo scorrimento e resistenza all'usura
5Minore retrodiffusione: il tungsteno metallico produce meno retrodiffusione quando i raggi X entrano in collisione, il che aiuta a ridurre il rumore di fondo e a migliorare la nitidezza delle immagini.

 

Specifiche dei target di sputtering circolare al tungsteno:

Grado

W1,W2

Purezza

Maggiore o uguale al 95%

Diametro

0.25mm-100mm

Spessore

1-12millimetro

Punto di fusione

3410 gradi

Densità

19,3 g/cm3

Superficie

Lucidato, messa a terra

Tempi di consegna

25 giorni

Standard

ASTM, GB

Certificazione

Certificazione ISO9001

 

Immagini di obiettivi di sputtering circolare al tungsteno:

Tungsten Wafers

Tungsten Target

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