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Bersaglio rotondo in titanio e silicio
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Bersaglio rotondo in titanio e silicio

Bersaglio rotondo in titanio e silicio

Target tondo per sputtering in silicio al titanio Caratteristiche e applicazione In quanto materiale essenziale per il processo di sputtering (processo di rivestimento), i target per sputtering in metallo sono generalmente realizzati con materiali con elevate proprietà meccaniche e lunga durata. Titanium Silicon Sputter Round Targets contiene...
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Product Details ofBersaglio rotondo in titanio e silicio

Caratteristiche e applicazione del bersaglio rotondo in titanio e silicio

In quanto materiale essenziale per il processo di sputtering (processo di rivestimento), i bersagli metallici per sputtering sono generalmente realizzati con materiali con elevate proprietà meccaniche e lunga durata. Titanium Silicon Sputter Round Targets contiene tutte le eccellenti proprietà del silicio e del titanio, come elevata durezza e resistenza, proprietà chimiche stabili, forte resistenza alle alte temperature, buona resistenza all'ablazione, forte resistenza agli shock termici, buona resistenza all'usura, lunga durata, alta resistenza umana affinità, buona finitura superficiale e struttura a grana fine e stabile. I rivestimenti spruzzati da Titanium Silicon Sputter Round Targets possono proteggere strumenti e componenti utilizzati in ambienti ad alta corrosione, taglio elevato e temperature estremamente elevate e sono molto adatti per applicazioni in fusione di metalli, protezione antincendio, industrie ad alta temperatura, aerospaziale, edilizia , ingegneria elettronica, processo di sputtering del magnetron e industria del rivestimento del vetro e altri campi.

Specifiche dell'obiettivo rotondo dello sputtering del silicio di titanio:

Componenti chimici

(alla percentuale)

Ti85Si15

Ti80Si20

Ti75Si25

Ti70Si30

Purezza

( per cento )

99.8

99.8

99.8

99.8

Densità

(g/cm3)

4.4

4.35

4.3

4.17

Granulometria

(μm)

Minore o uguale a 100

Minore o uguale a 100

Minore o uguale a 100

Minore o uguale a 100

Conducibilità termica

(W/m.K)

18.5

20

22

23

Specifiche dimensioni

(mm)

Obiettivi planari:

 

Inferiore o uguale a 1500*500

Obiettivi planari:

 

Inferiore o uguale a 1500*500

Obiettivi planari:

 

Inferiore o uguale a 1500*500

Obiettivi planari:

 

Inferiore o uguale a 1500*500

Grado

Ti85Si15, Ti80Si20, Ti70Si30, ecc.

Tecnica

Pressatura isostatica a caldo, Saldatura, Sinterizzazione, Forgiatura, Ricottura

Spessore

3mm-30mm

Lunghezza

10mm-2000mm

Diametro circolare

50-100mm

Tipo

Planare, Tubo, Disco, Cilindrico

Superficie

Lucido, pulizia alcalina, molatura, ossido nero, ecc.

Certificazione

ISO9001

Immagini rotonde dell'obiettivo di polverizzazione del silicio di titanio:

AISi Alloy Sputtering Target

Aluminum SiliconAlSi Sputtering Target

FAQ

D: sei un produttore o una società commerciale?

A: Siamo una società commerciale, ma possiamo fornirti prodotti di altissima qualità a un prezzo molto buono. Non esitate a contattarci via email.

D: Accetti personalizzati?

A: Sì, accettiamo. Progetteremo e forniremo prodotti in base alle informazioni specifiche fornite.

D: Qual è il costo di spedizione?

R: Dipende principalmente dal peso, dal volume, dalla distanza dalla destinazione e dalle dimensioni del pacco.

d: qual è il tempo di consegna?

R: Dopo che tutti i prodotti sono stati realizzati, te li consegneremo entro circa 15-20 giorni il prima possibile.

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