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Obiettivo di metallo boro al 99,9%
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Obiettivo di metallo boro al 99,9%

Obiettivo di metallo boro al 99,9%

Descrizione del target di metallo al boro al 99,9% Il target di metallo al boro al 99,9% è un tipo di materiale target semiconduttore ad alta densità e purezza, che viene prodotto principalmente tramite fusione di polvere, pressatura, sinterizzazione ad alta temperatura, lavorazione della plastica e rilevamento di difetti tramite ultrasuoni. Viene spesso utilizzato in...
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Product Details ofObiettivo di metallo boro al 99,9%

Descrizione del bersaglio del metallo boro al 99,9%

Il 99,9% Boron Metal Target è un tipo di materiale target semiconduttore ad alta purezza e alta densità, che viene realizzato principalmente tramite fusione di polvere, pressatura, sinterizzazione ad alta temperatura, lavorazione della plastica e rilevamento di difetti ad ultrasuoni. Viene spesso utilizzato in elettronica, aerospaziale, difesa e altri settori. Il 99,9% Boron Metal Target ha un punto di fusione elevato, elevata conduttività termica, buona resistività, resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione, buona tenacità, resistenza all'impatto elettronico, lunga durata e altre eccellenti caratteristiche. Può essere utilizzato bene in PVD, CVD, lavorazione a sputtering magnetron e apparecchiature per semiconduttori. Il rivestimento a film sottile che ne deriva può aumentare la durezza e la conduttività della superficie dei dispositivi elettronici, mantenendo il normale funzionamento e la stabilità dell'apparecchiatura.

Specifiche del bersaglio del metallo boro al 99,9%:

Materiale

Boro (B)

Misurare

Dischi (diametro inferiore o uguale a 480 mm, spessore superiore o uguale a 1 mm)

Densità

2,34 g/cm3

Punto di fusione

2300 gradi

Forma

Dischi

Superficie

Lucidatura, pulizia con alcali, molatura, ossido nero, ecc.

Tempi di consegna 20 giorni

Certificazione

Certificazione ISO9001

Immagini di obiettivi di metallo boro al 99,9%

Boron Target

High Purity Boron Target

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