Wafer per raggi X al berillio

Descrizione del wafer a raggi X al berillio

Il wafer a raggi X al berillio è realizzato in materiale di berillio di elevata purezza attraverso processi di pressatura a caldo e laminazione sotto vuoto. È il materiale per finestre più comunemente utilizzato per tubi a raggi X, rilevatori e sorgenti di fotoni a bassa energia. Può essere ampiamente utilizzato in applicazioni mediche, aerospaziali e militari. Armi, industria dell'energia atomica e applicazioni acustiche. L'utilizzo del wafer a raggi X al berillio può garantire una trasmissione costante attraverso l'intera finestra, aiutando i sistemi di rilevamento e analisi ad alta tecnologia a funzionare con precisione in condizioni estreme. La nostra azienda può accettare produzioni personalizzate e ha superato una serie di controlli di qualità, quindi puoi ordinare i nostri prodotti con fiducia.

Caratteristiche del wafer a raggi X al berillio:

1.Il berillio ha una penetrazione dei raggi X molto elevata (quasi trasparente), circa 17 volte quella dell'alluminio
2. Leggero, bassa densità, elevato modulo elastico e buona stabilità termica
3. Elevata purezza, resistenza alle alte temperature, buona tenuta
4. Le proprietà chimiche del berillio sono attive, che possono formare uno strato protettivo denso di ossidazione superficiale e hanno un'evidente resistenza alla corrosione

Specifiche del wafer a raggi X al berillio:

Immagine del wafer a raggi X al berillio:

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