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Bersaglio a polverizzazione di boro
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Bersaglio a polverizzazione di boro

Bersaglio a polverizzazione di boro

Boron Sputter Target Application Il boro metallico ha una vasta gamma di applicazioni e può essere utilizzato come catalizzatore nell'industria ceramica e nella sintesi organica, come combustibile ad alta energia nei propellenti solidi per razzi, come materiale di produzione per fibre di boro o come scavenger di gas in liquido di rame. IL...
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Product Details ofBersaglio a polverizzazione di boro

Applicazione del bersaglio per polverizzazione del boro

Il boro metallico ha una vasta gamma di applicazioni e può essere utilizzato come catalizzatore nell'industria ceramica e nella sintesi organica, come combustibile ad alta energia nei propellenti solidi per razzi, come materiale di produzione per le fibre di boro o come scavenger di gas nel rame liquido. La purezza del bersaglio di sputtering determina in una certa misura la qualità e l'efficienza del processo di sputtering. Boron Sputter Target è un eccellente materiale di preparazione per i processi CVD e PVD. Boron Sputter Target può essere utilizzato in vari settori di rivestimento, come rivestimento di vetro, prodotti di informazione elettronica, strumenti hardware, vetro automobilistico, prodotti decorativi di fascia alta e industria chimica, ecc.

Caratteristiche degli obiettivi Boron Sputter:

1. È un conduttore debole a temperatura ambiente e un buon conduttore ad alta temperatura

2. Non reagisce all'ossigeno, all'acqua, agli acidi e agli alcali e spesso reagisce con i metalli per formare boruri

3. Alto punto di fusione, granulometria media più piccola, struttura interna stabile

4. Buona conduttività elettrica, eccellente resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e resistenza alla corrosione

5. Lunga durata, prestazioni ad alto costo e ampia applicazione

 

Boron Sputter Target Specifiche:

Materiale

Boro(B)

Tecnica

Pressatura isostatica a caldo, Affinamento del grano, Sinterizzazione, Forgiatura, Ricottura

Purezza

99,5 per cento, 99,9 per cento, 99,99 per cento

Diametro

Inferiore o uguale a 480 mm

Spessore

Maggiore o uguale a 1 mm

Densità

2,34 g/cm3

Punto di fusione

2300 gradi

Forma

Dischi, piastre, obiettivi a colonna, obiettivi a gradino, su misura

Superficie

Lucido, pulizia alcalina, molatura, ossido nero, ecc.

Certificazione

ISO9001

 

Boron Sputter Obiettivi Immagini:

Boron B Sputtering Targets

Boron Sputtering Targets

 

FAQ

D: sei un produttore o una società commerciale?

A: Siamo una società commerciale, ma possiamo fornirti prodotti di altissima qualità a un prezzo molto buono. Non esitate a contattarci via email.

D: Accetti personalizzati?

A: Sì, accettiamo. Progetteremo e forniremo prodotti in base alle informazioni specifiche fornite.

D: Qual è il costo di spedizione?

A: Questo dipende principalmente dal peso, dal volume, dalla distanza dalla destinazione e dalle dimensioni del pacco. Faremo del nostro meglio per comunicare con la compagnia espressa per aiutarti a ottenere il costo di spedizione più ragionevole.

d: qual è il tempo di consegna?

R: Dopo che tutti i prodotti sono stati realizzati, te li consegneremo entro circa 15-20 giorni il prima possibile.

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