Il target dello sputtering è una parte importante della tecnologia di sputtering del magnetron, che può essere divisa in tre tipi: metallo, lega e ceramica. Tra questi, maggiore è la purezza del materiale, maggiore è la qualità della pellicola spruzzata e migliore è la resistenza all'usura, inoltre la protezione dell'utensile è più duratura. A metà marzo, il cliente indonesiano ha ricevuto con successo e sicurezza i target Sputter in titanio e silicio che abbiamo completato e spedito il mese scorso e ha elogiato la qualità del prodotto, la velocità di consegna e l'atteggiamento del servizio e prevede di invitarci ulteriormente a partecipare a fiere di settore. La nostra azienda nutre anche buoni rapporti con i partner, se riusciamo a raggiungere la cooperazione in altri prodotti in metalli non ferrosi, lavoreremo di più per migliorare la tecnologia di produzione per fornire ai clienti prodotti di alta qualità.
I target per sputtering in titanio-silicio sono realizzati con polvere mista di titanio e silicio di alta qualità per pressatura, sinterizzazione, laminazione, ricottura, macinazione e lucidatura mediante la tecnologia della metallurgia delle polveri. Ha elevata purezza, struttura stabile, elevata qualità del film e forte adesione, forte resistenza alla corrosione, buona resistenza all'usura, ecc. Eccellente resistenza agli urti e forte durata. Il bersaglio per sputtering in lega di titanio e silicio può essere suddiviso in bersaglio piatto, bersaglio circolare, bersaglio cilindrico e bersaglio tubolare, comunemente usato nei sistemi di rivestimento PVD o CVD, ideale per l'industria del rivestimento decorativo, rivestimento di dispositivi semiconduttori, rivestimento di strumenti hardware, rivestimento di vetro per autoveicoli, vuoto rivestimento, ecc. Industria medica, dispositivi LED e fotovoltaici e altri campi.
