Parti di impianto ionico in molibdeno e tungsteno per semiconduttori

IlParti di impianto ionico in molibdeno e tungstenoè un dispositivo chiave nella produzione di circuiti integrati. Quando il fascio ionico viene iniettato nella superficie del semiconduttore e depositato, la concentrazione del vettore e il tipo di conducibilità cambiano.

L'impianto ionico è ampiamente utilizzato in materiali semiconduttori, metalli, ceramica, polimeri e altri campi grazie alla sua eccellente modifica della superficie. L'impianto ionico è la chiave per la produzione di circuiti integrati (CI) su larga scala. I dispositivi al molibdeno sono i dispositivi chiave per la soppressione e la schermatura dei raggi ionizzanti nel sistema di sorgenti di ioni degli impiantatori ionici a semiconduttore.

Poiché la conversione della sorgente ionica in ioni plasma durante l'impianto ionico produce una temperatura di lavoro di oltre 2000 gradi e l'espulsione del fascio ionico genera anche una grande quantità di energia cinetica ionica, i metalli tipici vengono rapidamente bruciati e fusi.

Applicazione: parti di impiantatore di ioni molibdeno per semiconduttore

1. La maggior parte delle parti di molibdeno utilizzate per l'impianto di ioni sono utilizzate nell'industria dei semiconduttori;

2. Produrre dispositivi di impianto di ioni molibdeno ad alta densità, elevata purezza, alta precisione e struttura interna uniforme;

3. Le nostre parti di impianto di ioni molibdeno sono adatte per iniettore a fascio medio e iniettore a fascio forte;

4. Le parti in molibdeno per l'impianto ionico sono prodotte secondo i disegni del cliente.

5. Adatto per metallurgia, terre rare, macchinari e altre industrie

Parti dell'impianto ionico in molibdeno e tungsteno Immagine:

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