Bersaglio per sputtering in lega di titanio TiAl

Descrizione del bersaglio di sputtering in lega di titanio TiAl

L'obiettivo di sputtering si riferisce alla materia prima utilizzata nel processo di deposizione di sputtering. Si riferisce al processo in cui gli atomi vengono espulsi dal bersaglio solido a causa del bombardamento del bersaglio con particelle ad alta energia. La sua funzione principale è depositare una pellicola sottile sull'oggetto. . Il bersaglio per sputtering in lega di titanio TiAl viene spesso realizzato mediante il metodo di produzione della fusione sotto vuoto. Ha una serie di eccellenti proprietà del titanio e dello zirconio, come elevata durezza, resistenza alle alte temperature, elevata resistenza meccanica, buona biofilia, eccellente resistenza alla corrosione, forte resistenza all'impatto dell'arco e alla macinazione, durevole, ecc. Il bersaglio per sputtering in lega di titanio TiAl può essere ampiamente utilizzato nella tecnologia di rivestimento sotto vuoto utilizzando PVD e CVD come processi principali. Può rivestire prodotti elettronici, dispositivi elettronici, dispositivi di visualizzazione schermati e dispositivi a circuito integrato per migliorare la qualità di visualizzazione e la durata. Può essere utilizzato anche per rivestire strumenti di lavorazione, stampi e vetro per soddisfare le esigenze dell'industria manifatturiera globale di strumenti ad alte prestazioni e vetro a risparmio energetico ed ecologico.

Specifiche del bersaglio sputtering in lega di titanio TiAl:

Immagine del bersaglio sputtering in lega di titanio TiAl

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