Obiettivi in ​​rame ad elevata purezza

Obiettivi in ​​rame ad elevata purezzasono target del processo PVD realizzati con materiali di rame di elevata purezza dopo la metallurgia delle polveri o il processo di fusione, utilizzati principalmente nell'industria dei semiconduttori per depositare pellicole di rame su circuiti integrati e possono anche essere utilizzati come materiali di contatto posteriore per stabilire connessioni tra celle solari e circuiti esterni . I target in rame ad elevata purezza vengono utilizzati anche per produrre rivestimenti decorativi di alta qualità su una varietà di materiali come vetro, plastica e ceramica per soddisfare le esigenze dei clienti in termini di brillantezza e resistenza alla corrosione dei prodotti applicati.

Il rame ad elevata purezza mira al vantaggio

1. L'elevata purezza del target determina l'alta qualità, la buona uniformità e l'assenza di impurità della pellicola depositata

2. Buona conduttività termica, dissipazione del calore e resistenza alle alte temperature

3. Alta densità, può sopportare un'elevata densità di potenza senza sciogliersi o degradarsi

4. Facile da elaborare e modellare in varie forme, inclusi dischi, rettangoli e bersagli rotanti

5. Può essere utilizzato come materiale backplane per fornire supporto stabile per obiettivi di sputtering, migliorare l'efficienza di sputtering e la durata di servizio dell'obiettivo

Dimensioni degli obiettivi in ​​rame ad elevata purezza

Immagini di bersagli in rame ad elevata purezza

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