Target di cromo

Panoramica

A Target di cromoè una chiave consumabile utilizzata per produrre film sottili di cromo nelle tecnologie di deposizione di film sottili, come lo sputtering del magnetron ed evaporazione del fascio di elettroni . È fatto principalmente in crisi metallica di alta purezza e è fabbricato attraverso i processi di polvere, la fusione e la fusione e la pressione . (E . g ., Cu Interconnect Barrier Layers e fotolitografia Maschera strati di protezione della luce), componenti ottici (e . g . )

99,95% di caratteristiche target di cromo

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Applicazione

1. l'industria dei semiconduttori

I film di Chromium sono spesso usati come materiali di deposizione a film sottile . La loro elevata resistenza al calore e l'eccellente stabilità chimica migliorano significativamente le prestazioni complessive e la durata dei dispositivi a semiconduttore .
2. Industria fotovoltaica
I materiali target di Chromium possono essere utilizzati per produrre pannelli solari . migliorando la velocità di assorbimento della luce della batteria e riducendo la riflettività superficiale, possono aumentare l'efficienza di conversione dell'energia solare, aumentando così la capacità di generazione di energia dei pannelli solari e abbassando i costi di energia .}}
3. rivestimenti decorativi e protettivi per automobili ed edifici
Utilizzati per la produzione di film decorativi in metallo . Questi film di cromo non solo offrono una lucentezza e un colore attraenti, ma forniscono anche ulteriore protezione anticorrosione e resistenti all'usura, migliorando l'aspetto e la durata dei prodotti .}
4. Film di deposizione fisica e rivestimenti funzionali per componenti elettronici, display e strumenti (metodo PVD) .
5. La placca di cromo vuoto viene utilizzato per parti di orologi, componenti dell'apparecchio domestico, cilindri idraulici, valvole di scorrimento, vetro colorato e altri macchinari e attrezzature .

Applicazione di obiettivi di sputtering del cromo nella produzione di semiconduttori

1. Utilizzato principalmente nel processo di rivestimento di sputtering, può formare un film di cromo uniforme, denso e forte di adesione, che può migliorare significativamente le prestazioni e la stabilità dei dispositivi a semiconduttore .
2. Gli obiettivi di cromo CR sono ampiamente utilizzati nei film di deposizione dei circuiti integrati e sono utilizzati per percorsi conduttivi e connessioni in dispositivi microelettronici, garantendo un'efficace dissipazione del calore e trasmissione stabile di strati conduttivi .
3. Il bersaglio rotondo di cromo CR viene utilizzato anche nello strato anti-eatching, che può proteggere la struttura del circuito dai danni durante il processo di incisione e migliorare l'integrità del modello di circuito‌
4. In alcuni dispositivi a semiconduttore specifici, come sensori ottici e celle solari, i film di alta qualità sputati da bersagli di cromo possono ottimizzare ulteriormente le prestazioni ottiche e la durata del servizio del dispositivo .

Processo

• Metallurgia in polvere: a basso costo, adatto alla preparazione di obiettivi di grande e di forma speciale (come obiettivi curvi)

① Dopo aver purificato la polvere di cromo, mescolalo con una piccola quantità di aiuti di sinterizzazione e omogeneizzare le particelle di polvere attraverso la fresatura a sfera .

② Crea una pressione isostatica a freddo o pressione isostatica calda per aumentare la densità del bersaglio .

③ Sinter in una fornace di atmosfera protettiva per idrogeno per 2-4 ore per eliminare i pori attraverso la sinterizzazione della diffusione e aumentare la densità del materiale .

④ Taglia e macina il vuoto sinterizzato per ridurre la tolleranza dimensionale e lucidare la superficie dopo la pulizia ad ultrasuoni per rimuovere lo strato di ossido di superficie .

• Metodo di fusione: alta densità, maggiore purezza, ma processo complesso, costo elevato, per lo più utilizzato per target standard rotondi o rettangolari .

① Usa la fusione del fascio di elettroni o lo scioglimento dell'arco a vuoto per fondere i blocchi di cromo ad alta purezza .

② Lancia il liquido cromo fuso in lingotti e poi forgia calda o rotolo caldo .

③ Taglia i lingotti di cromo forgiato in dimensioni personalizzate, rimuovi la scala di ossido mediante macinazione meccanica e quindi ricottura .

④ Eseguire un'ispezione completa di qualità prima dell'imballaggio e della spedizione, come l'ispezione dell'aspetto, l'accuratezza dimensionale, il test di resistenza, ecc. .

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Perché scegliere noi

Caso

Target di Chromium, 99,95% di Chromium CR bersaglio in Corea

All'inizio di gennaio, abbiamo firmato un accordo di cooperazione commerciale relativa al target con un cliente coreano . che i clienti hanno ordinato un certo importo di 99 . 95% di Chromium CR di Cromium CR da noi per essere utilizzati nella loro produzione di apparecchiature elettroniche . Abbiamo raggiunto un consenso con il cliente sulla dimensione, la quantità di prodotto, il prezzo e il prezzo tramite e-mail.
Usiamo un processo di metallurgia delle polveri in base ai requisiti del cliente nell'elaborazione . la metallurgia della polvere è un metodo per premere la polvere di cromo ad alta purezza in una forma e quindi sinterirlo . è adatto per la preparazione di bersagli complessi. per ottenere bersagli ad alta purizia, alte microostrutture e alimentazione di superficie e alimentazione di superficie ad alta superficie e alimentazione di sopravvivenza e alimentazione al di fuori del trattamento e alimentazione alimentari e alimentari ad alta superficie e alimentazione a causa di alimentazione ad alta superficie e alimentazione a causa di alimentazione ad alta superficie e alimentazione alimentari ad alta superficie e alimentazione a causa di alimentazione ad alta superficie e alimentazione a scavo e alimentazione di sopravvive Richiesto . Infine, i test di qualità e prestazioni devono essere eseguiti per soddisfare gli standard internazionali .

Qualificazione del prodotto

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