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Obiettivi di sputtering planari in silicio di titanio
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Obiettivi di sputtering planari in silicio di titanio

Obiettivi di sputtering planari in silicio di titanio

Obiettivi di sputtering planare in silicio di titanio Descrizione Il siliciuro di titanio è un composto inorganico che viene generalmente prodotto utilizzando tecniche di siliciuro su linee di silicio e polisilicio per ridurre la resistenza del foglio delle connessioni dei transistor locali. Titanio Silicio Planare Sputtering...
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Product Details ofObiettivi di sputtering planari in silicio di titanio

Descrizione degli obiettivi di sputtering planare in silicio di titanio

Il siliciuro di titanio è un composto inorganico che viene tipicamente prodotto utilizzando tecniche di siliciuro su linee di silicio e polisilicio per ridurre la resistenza del foglio delle connessioni dei transistor locali. Gli obiettivi di sputtering planare in silicio di titanio sono generalmente prodotti dalla tecnologia HIP avanzata, che presenta una serie di vantaggi come elevata durezza, bassa usura, eccellente resistenza agli shock termici, elevata purezza, grana fine e uniforme, lunga durata, elevata resistenza all'ossidazione e alto rivestimento qualità . Gli obiettivi di sputtering planare in silicio di titanio sono un materiale eccellente per il rivestimento metallico. Gli utensili di ferramenta da esso rivestiti sono molto resistenti all'usura, in modo da poter lavorare ad elevate velocità di taglio, e possono lavorare anche leghe di nichel molto dure e materiali di titanio. Gli obiettivi di sputtering planare in silicio di titanio sono anche molto adatti per l'applicazione nell'industria dei semiconduttori, decorazione, display, dispositivi LED e fotovoltaici, rivestimento in vetro e altri settori.

Specifiche degli obiettivi di sputtering planare in silicio di titanio:

Grado

Ti85Si15, Ti80Si20, Ti75Si25, Ti70Si30, ecc.

Tecnica

Pressatura isostatica a caldo, Saldatura, Sinterizzazione, Forgiatura, Ricottura

Purezza

99,8 per cento

Spessore

3mm-30mm

Lunghezza

10mm-2000mm

Diametro circolare

50-100mm

Densità

4.17-4.4.g/cm3

Tipo

Obiettivo di sputtering planare

Forma

Dischi, Piastre, Obiettivi a colonna, Obiettivi a gradini, Su misura

Superficie

Lucido, pulizia alcalina, molatura, ossido nero, ecc.

Certificazione

ISO9001

Immagini degli obiettivi di sputtering planare del silicio di titanio:

Titanium Silicon Planar Sputter Target

Titanium Silicon Sputtering Target

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