Obiettivi per sputter in titanio e alluminio

Descrizione degli obiettivi di polverizzazione dell'alluminio di titanio

La tecnologia di sputtering del magnetron è una delle tecnologie chiave per la preparazione di materiali a film sottile e il target di sputtering del metallo è il materiale chiave nel processo di sputtering. Titanium Aluminium Sputter Targets presenta le eccellenti caratteristiche del titanio metallico e dell'alluminio metallico, come elevata duttilità, elevata resistenza all'usura, eccellente conducibilità elettrica e termica, microstruttura ottimale, buona durata, prestazioni di incisione e prestazioni di lavorazione Buone, buone prestazioni di adesione con il substrato, ecc. I bersagli per sputtering in alluminio e titanio possono spruzzare rivestimenti di nitruro duri e resistenti all'ossidazione (TiAlN) su punte, frese, inserti da taglio indicizzabili e altri strumenti e migliorare la velocità di avanzamento, le prestazioni di taglio e la durata degli strumenti di lavorazione. Titanium Aluminium Sputter Targets produce anche strati adesivi e capping in circuiti integrati, rivestimenti decorativi per dispositivi elettronici (come quadranti per telefoni cellulari, schermi piatti o orologi di lusso) e rivestimenti in vetro per l'industria automobilistica.

Specifiche degli obiettivi Sputter in alluminio e titanio:

Immagini degli obiettivi di polverizzazione dell'alluminio di titanio:

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