Bersaglio di sputtering planare al cromo

Caratteristiche e applicazione del bersaglio per sputtering planare al cromo

L'elemento di cromo originale deve essere purificato mediante una serie di processi come la fusione ad alta temperatura, la raffinazione e l'elettrolisi, quindi il materiale di cromo purificato viene trasformato nella forma e nelle dimensioni desiderate mediante trattamento termico. Il bersaglio per sputtering planare al cromo è solitamente costituito da polvere di cromo ad alta purezza. Viene spesso utilizzato come fonte di evaporazione del processo di modifica del rivestimento superficiale. Può essere ampiamente utilizzato in serrature, strumenti hardware, lampade, coltelli meccanici, gusci di prodotti high-tech e parti di automobili e motocicli. Aspettare. Il cromo ha un alto punto di fusione e un'elevata resistenza all'ossidazione, consentendo al cromo Planar Sputtering Target di mantenere prestazioni eccellenti in ambienti ad alta temperatura, quindi è molto adatto per rivestire rivestimenti di cromo su parti vulnerabili e importanti per prolungare la durata delle apparecchiature chiave. Chromium Planar Sputtering Target può essere utilizzato anche per la tecnologia a film sottile di deposizione fisica nella produzione di celle fotovoltaiche, industria automobilistica, industria aerospaziale e componenti elettronici, display e dispositivi microelettronici.

Specifiche del target di sputtering planare al cromo:

Immagini dell'obiettivo di sputtering planare al cromo:

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