Platinum Sputtering Target

FANMETAL fornisce il bersaglio di sputtering al platino e altri bersagli di sputtering di metalli preziosi utilizzati nel sistema di rivestimento PVD. Come Au gold sputtering target , Ag silver sputtering target , Pt platinum sputtering target , Ir iridium sputtering target, Ru ruthenium sputtering target .

Specifiche per Platinum (Pt) Sputtering Target

Nome del prodotto	Obiettivi di sputtering di platino
Codice Articolo	ST-PE78 ·
Purezza	99.95%-99.99%
Forma	Dischi, piastre, target a colonna, target per tubi, su misura
Dimensioni	Target di sputtering rotondo: Diametro:<18”, thickness:="">0.04" Destinazione di sputtering rettangolare: Lunghezza:<36”, width:=""><12”, thickness:="">0.04"
Legame	Indio

Immagine di destinazione Di Sputtering Platinum

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Nome del prodotto	Elemento	Purezza	Punto di fusione °C	Densità (g/cc)	Forme disponibili
Alta scheggia pura	Argentum	4N-5N	961	10.49	Filo, foglio, particella, bersaglio
Alluminio ad alta purezza	Ale	4N-6N	660	2.7	Filo, foglio, particella, bersaglio
Oro puro alto	Au	4N-5N	1062	19.32	Filo, foglio, particella, bersaglio
Bismuto puro alto	Bi	5N-6N	271.4	9.79	Particella, Target
Cadmio puro alto	CD	5N-7N	321.1	8.65	Particella, Target
Cobalto puro ad alto contenuto	Co	4N	1495	8.9	Particella, Target
Cromo puro ad alto contenuto di cromo	Cr	3N-4N	1890	7.2	Particella, Target
Rame puro ad alto contenuto di alcol	Cu	3N-6N	1083	8.92	Filo, foglio, particella, bersaglio
Ferro ad alta purezza	Fe	3N-4N	1535	7.86	Particella, Target
Germanio puro alto	Ge	5N-6N	937	5.35	Particella, Target
Indio ad alta purezza	In	5N-6N	157	7.3	Particella, Target
Magnesio puro ad alto contenuto di magnesio	Mg	4N	651	1.74	Filo, Particella, Bersaglio
Magnesio puro ad alto contenuto di magnesio	Mn	3N	1244	7.2	Filo, Particella, Bersaglio
Molibdeno puro alto	Mo	4N	2617	10.22	Filo, foglio, particella, bersaglio
Niobio ad alto contenuto di pura qualità	Nb	4N	2468	8.55	Filo, Target
Nichel puro ad alto contenuto di vino	Ni	3N-5N	1453	8.9	Filo, foglio, particella, bersaglio
Piombo puro alto	Pb	4N-6N	328	11.34	Particella, Target
Palladio ad alta purezza	Pd	3N-4N	1555	12.02	Filo, foglio, particella, bersaglio
Platino puro alto	Pt	3N-4N	1774	21.5	Filo, foglio, particella, bersaglio
Silicio ad alta purezza	Si	5N-7N	1410	2.42	Particella, Target
Stagno ad alta purezza	Sn	5N-6N	232	7.75	Filo, Particella, Bersaglio
Tantalio puro alto	Grazie	4N	2996	16.6	Filo, foglio, particella, bersaglio
Tellurio ad alta purezza	Te	4N-6N	425	6.25	Particella, Target
Titanio ad alta purezza	Ti	4N-5N	1675	4.5	Filo, Particella, Bersaglio
Tungsteno ad alta purezza	W	3N5-4N	3410	19.3	Filo, foglio, particella, bersaglio
Zinco ad alto contenuto puro	Zn	4N-6N	419	7.14	Filo, foglio, particella, bersaglio
Zirconio ad alta purezza	Zr	4N	1477	6.4	Filo, foglio, particella, bersaglio

Gli obiettivi di sputtering ad alta purezza e ad alta densità includono:

Target di sputtering (purezza: 99,9%-99,999%)

1. Bersaglio metallico:

Bersaglio di nichel, Ni, bersaglio di titanio, Ti, bersaglio di zinco, Zn, bersaglio di cromo, Cr, bersaglio di magnesio, Mg, bersaglio di niobio, Nb, bersaglio di stagno, Sn, bersaglio di alluminio, Al, bersaglio di indio, In, bersaglio di ferro, Fe, bersaglio di alluminio di zirconio, Zr, bersaglio di alluminio in alluminio, TiAl, bersaglio di zirconio, Zr, bersaglio di silicio in alluminio, AlSi, bersaglio di silicio, Si, bersaglio di rame Cu, bersaglio di tantalio T, a, bersaglio di germanio, Ge, silver target, Ag, cobalt target, Co, gold target, Au, gadolininium target, Gd, lanthanum target, La, ytrium target, Y, cerium target, Ce, tungsten target, w, stainless steel target, nickel-chromium target, NiCr, hafnium target, Hf, molibdeno target, Metal sputtering targets come Mo, Fe-Ni targets, FeNi, Tungsten target, e W targets.

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