Obiettivo di sputtering dell'oro ad alta purezza
Applicazione target per sputtering dell'oro ad alta purezza
Esistono spesso due metodi per depositare rivestimenti a film sottile: magnetron sputtering ed evaporazione ad arco, il primo dei quali è il più comunemente usato e il più conveniente, e il materiale necessario è un bersaglio per sputtering metallico. La qualità della sua pellicola dipende dalle prestazioni del bersaglio metallico. L'oro è un metallo di transizione denso e morbido, molto duttile e resistente. High Purity Gold Sputtering Target è il materiale chiave per la tecnologia di rivestimento SEM, che può fornire un buon effetto di osservazione per campioni non conduttivi. High Purity Gold Sputtering Target è ampiamente utilizzato in settori come quello aerospaziale, rivestimento decorativo, illuminazione, elettronica e semiconduttori, comunicazione ottica e rivestimento sottovuoto.
Vantaggi dell'obiettivo di sputtering dell'oro ad alta purezza:
1. Elevata purezza, eccellente conducibilità elettrica e termica
2. Eccellente resistenza all'usura e resistenza alla corrosione, buona duttilità
3. La sua pellicola conduttiva può migliorare il contrasto dell'immagine e proteggere il campione
4. Può migliorare la lucentezza dei prodotti elettronici, rendendoli più resistenti all'usura e attraenti
Specifiche dell'obiettivo di sputtering dell'oro ad alta purezza:
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Materiale |
Oro (Au) |
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Purezza |
99.99-99.999 percento |
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Misurare |
Ø60 mm |
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Densità |
19,3 g/cm3 |
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Punto di fusione |
1064 gradi |
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Superficie |
Fresatura, rettifica, nero, lucido lucido |
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Tempi di consegna |
15-20 giorni |
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Standard |
ASTM,GB,ANSI |
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Certificazione |
ISO9001 |
Immagini dell'obiettivo di sputtering dell'oro di elevata purezza:


FAQ
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