Parte per l'impianto di ioni di molibdeno
Descrizione della parte di impianto di ioni di molibdeno
L'impianto ionico è la chiave per produrre dispositivi a semiconduttore e quando il fascio ionico viene diretto sulla superficie del semiconduttore e depositato, la concentrazione del portatore e il tipo conduttivo cambiano. La parte per l'impianto di molibdeno è realizzata in materiale di molibdeno di alta qualità attraverso il processo di metallurgia delle polveri, con alto punto di fusione, elevata resistenza, elevata precisione di iniezione, resistenza alla corrosione, elevata conduttività termica, alto punto di fusione, basso coefficiente di dilatazione termica, eccellente funzione di modifica della superficie, lunga durata e altri vantaggi. La parte di impianto di ioni di molibdeno può essere utilizzata per produrre vari dispositivi a semiconduttore, come transistor, circuiti integrati, dispositivi microelettronici, celle solari, ecc., che possono controllarne le proprietà elettriche e chimiche per ottenere funzioni specifiche dei dispositivi a semiconduttore. La parte di impianto di ioni di molibdeno viene spesso utilizzata nell'impianto di ioni, nell'industria delle sorgenti di luce elettrica, nell'industria della raffinazione dello zaffiro, nell'industria della ceramica e nei campi dei polimeri.
Specifiche della parte per l'impianto di ioni di molibdeno:
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Grado |
Mo,TZM,MLA,361 |
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Tecnica |
Laminazione a caldo, forgiatura, appiattimento, ricottura, lavorazione meccanica |
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Punto di fusione |
2610 gradi |
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Purezza |
Mo Maggiore o uguale al 99,95%. |
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Dimensione e forma |
Secondo i disegni |
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Densità |
10,2 g/cm3 |
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Superficie |
Lucidatura, anodizzazione, zincatura, pulizia chimica, verniciatura a polvere, ecc. |
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Standard |
ASTM B777,DIN,GB |
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Certificazione |
ISO9001 |
Immagini delle parti di impianto di ioni di molibdeno:


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